La resa di sputtering () è definita come il numero di atomi erosi dal bersaglio per ogni ione incidente.

È una quantità che dipende dai seguenti parametri: massa dello ione incidente massa degli atomi del bersaglio energia di legame interatomico nel solido angolo di incidenza energia dello ione incidente.

La curva della resa di sputtering in funzione dell'energia dello ione incidente è all'incirca lineare fino a una certa energia, oltre la quale tende a un asintoto orizzontale: a tali energie gli ioni penetrano così in profondità nel bersaglio che l'energia non è più trasmessa agli strati superficiali, ma solo a quelli sottostanti, in modo che gli atomi abbiano probabilità nulle di uscire dal bersaglio. In regimi di energie molto alte si esegue infatti un processo detto impianto ionico.

Bibliografia

Voci correlate Sputtering SIMS Spettrometria di massa a sputtering di neutri

Collegamenti esterni

Categoria:Fisica della materia condensata