Вакуумное напыление (; напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы) — группа методов напыления покрытий (тонких плёнок) в вакууме, при которых покрытие получается путём прямой конденсации пара наносимого материала.
Различают следующие стадии вакуумного напыления: Создание газа (пара) из частиц, составляющих напыление; Транспорт пара к подложке; Конденсация пара на подложке и формирование покрытия;
Введение К группе методов вакуумного напыления относятся перечисленные ниже технологии, а также реактивные варианты этих процессов. Методы термического напыления: Испарение электронным лучом (, electron beam physical vapor deposition, ); Испарение лазерным лучом (). Испарение вакуумной дугой (): материал испаряется в катодном пятне электрической дуги. Эпитаксия молекулярным лучом () Ионное распыление (): Исходный материал распыляется бомбардировкой ионным потоком и поступает на подложку. Магнетронное распыление () ()
Сфокусированный ионный пучок
Применение Вакуумное напыление применяют для создания на поверхности деталей, инструментов и оборудования функциональных покрытий — проводящих, изолирующих, износостойких, коррозионно-стойких, эрозионностойких, антифрикционных, антизадирных, барьерных и т. д Процесс используется для нанесения декоративных покрытий, например при производстве часов с позолотой и оправ для очков. Один из основных процессов микроэлектроники, где применяется для нанесения проводящих слоёв (металлизации). Вакуумное напыление используется для получения оптических покрытий: просветляющих, отражающих, фильтрующих.
Материалами для напыления служат мишени из различных материалов, металлов (титана, алюминия, вольфрама, молибдена, железа, никеля, меди, графита, хрома), их сплавов, соединений (SiO2,TiO2,Al2O3). В технологическую среду может быть добавлен химически активный газ, например ацетилен (для покрытий, содержащих углерод); азот, кислород. Химическая реакция на поверхности подложки активируется нагревом, либо ионизацией и диссоциацией газа той или иной формой газового разряда.
С помощью методов вакуумного напыления получают покрытия толщиной от нескольких ангстрем до нескольких десятков микрон, обычно после нанесения покрытия поверхность не требует дополнительной обработки.
См. также Газотермическое напыление Химическое осаждение из газовой фазы
Примечания
Литература
Mattox, Donald M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing: Film Formation, Adhesion, Surface Preparation and Contamination Control.. Westwood, N.J.: Noyes Publications, 1998. ISBN 0-8155-1422-0. Powell, Carroll F., Joseph H. Oxley, and John Milton Blocher (editors). Vapor Deposition. The Electrochemical Society series. New York: Wiley, 1966.
Ссылки
Категория:Покрытия Категория:Технологии электроники Категория:Электровакуумные приборы Категория:Производственные процессы и операции Категория:Тонкие плёнки Категория:Вакуум