Proces Augera jest charakteryzowany przez zespół trzech liter ze wskaźnikami, określający odpowiednio poszczególne powłoki (litery) i podpowłoki (wskaźniki) biorące udział w procesie Augera. Idąc od największych energii powłoki są oznaczane kolejno literami K L M N O. Linie spektralne tworzą układy linii o bardzo zbliżonych energiach, co objawia się m.in. gęstym ułożeniem. Owe linie tworzą przejścia wywołane jonizacją pierwotną tego samego poziomu. Linie spektralne AES są stosunkowo szerokie, co powoduje trudności w wyznaczaniu maksimów pików. Poziom tła w widmach AES jest bardzo wysoki. W celu dokładniejszego określenia położenia linii spektralnych, widma elektronów Augera różniczkuje się. Wtedy położenie linii określa minimum linii zróżniczkowanej. Widmo AES może być przedstawiane w funkcji intensywności do energii kinetycznej (najczęściej wykorzystywane) lub intensywności do energii wiązania.
Na kształt piku mają wpływ: kształt pasma, z którego jest emitowany elektron, straty plazmonowe, rozszczepienie subtelne poziomów, otoczenie chemiczne atomu emitującego elektrony.
Efekt Augera nie zachodzi dla wodoru i helu.