Fyzikální depozice z plynné fáze ( Physical Vapour Deposition, zkratka PVD) je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik chemické depozice, kdy jsou reaktanty v plynné fázi).
Mezi tyto techniky patří:
Vakuové napařování Depozice elektronovým svazkem Pulsní laserová depozice (PLD) Naprašování
Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve vakuu či kontrolované atmosféře při tlacích 10−4 až 100 Pa.
Externí odkazy
Kategorie:Fyzika kondenzovaného stavu Kategorie:Povrchové úpravy Kategorie:Výroba polovodičových součástek